碱性显影液JSC-Dev6 | 高分辨显影，线路图形精准再现
碱性显影液JSC-Dev6 是竞生化学为 PCB、半导体及液晶显示（LCD）制造过程的图形转移工艺开发的高性能显影液。主要成分为有机碱、表面活性剂、助溶剂和悬浮分散剂等，能够高效溶解未被曝光的光刻胶/干膜，精准显露出所需的线路图形，显影速度快、分辨率高，对光刻胶和基材无损伤。
PCB工业清洗药水
产品详情
在 PCB/半导体光刻工艺中，经过曝光的光刻胶（正性光刻胶）的曝光区域会发生化学结构变化，在显影液中的溶解度显著提高；JSC-Dev6通过其中的有机碱成分选择性溶解曝光区光刻胶，保留未曝光区的光刻胶，从而将掩膜版上的图形精确转移到基板上。
JSC-Dev6 碱性显影液是图形转移过程中的核心化学品。在 PCB/半导体光刻工艺中，经过曝光的光刻胶（正性光刻胶）的曝光区域会发生化学结构变化，在显影液中的溶解度显著提高；JSC-Dev6 通过其中的有机碱成分选择性溶解曝光区光刻胶，保留未曝光区的光刻胶，从而将掩膜版上的图形精确转移到基板上。
JSC-Dev6 适用于各种类型的正性光刻胶和干膜，在精细线路（L/S ≤ 30μm）的显影中表现优异，线宽/线距控制精度高，图形边缘陡直，线条均匀一致。
图形转移是 PCB 和半导体制造中决定线路精度的核心工艺。显影液作为图形转移工序的关键化学品，其性能直接影响着线路的线宽/线距精度、图形边缘质量和制程良率。
竞生化学 JSC-Dev6 碱性显影液是针对高精度图形转移需求开发的专业显影液。
解决痛点：
- 痛点一：显影不彻底，残留物导致短路或开路。 JSC-Dev6 显影完全，线路槽底无残留。
- 痛点二：显影线宽偏差大，阻抗控制不达标。 整板线宽偏差可控制在 ±2μm 以内。
- 痛点三：显影液对铜面或基材产生攻击。 JSC-Dev6 配方体系温和，对铜面、基材和阻焊层无攻击。
适用场景包括：用于PCB板、半导体集成线路、液晶显示（LCD）制造过程的图形转移工艺，适用于各种类型的正性光刻胶
产品特性
- 显影速度快：生产效率高，缩短工艺时间
- 分辨率高：精细线路图形再现精准，边缘陡直
- 选择性好：只溶解曝光区，不损伤未曝光光刻胶
- 对基材无损伤：不攻击铜面、基材和阻焊层
- 防再附着：特殊分散剂防止溶解的光刻胶重新附着
- 适用范围广：适配各类正性光刻胶和干膜
- 槽液寿命长：性能稳定，维护简便
